日本昭和真空鍍膜機（23寸射頻源SGC-S1550i型）的核心配置與技術細節綜合說明：

‌一、核心配置與性能參數‌

‌真空系統‌

‌真空室‌：尺寸兼容Φ1550mm規格（不銹鋼材質），工件架輻照面積≥Φ1150mm，極限真空≤7.0×10??Pa，搭配機械泵+羅茨泵+擴散泵+低溫冷凝器（POLYCOLD），15分鐘內可抽至工作真空（大氣壓→5×10?³Pa）。

‌污染控制‌：特殊設計降低微塵污染，支持連續20批次IR截止濾光片鍍膜無需清掃校正. 

‌鍍膜組件‌

‌射頻離子源‌：23寸高功率RF離子源，離子束聚焦精準，增強薄膜致密性與附著力，適用于樹脂基片至多層濾波片的高品質鍍膜。

‌蒸發源‌：配置電子槍（PLASMATECH 10KW型號）或熱阻蒸裝置，支持AR/AF/HR膜及100層以上介質膜制備。

‌監控系統‌

‌膜厚控制‌：光纖式光學膜厚儀+80點恒溫監控玻璃，結合晶控系統（如美國英福康SQM-160），實現納米級精度膜厚重復性。

‌自動化‌：全自動一鍵操作，參數記憶存儲功能，降低人工干預15。

‌二、技術優勢‌

‌穩定性‌：抗污染技術與真空系統協同，保障批量連續生產（如20批次IR濾光片零維護）。

‌精度控制‌：光纖監控儀溫控設計，確保膜層特性高度穩定，均勻性誤差≤±1%。

‌兼容性‌：適配玻璃、樹脂、金屬基材，覆蓋AR膜、AF膜、DBR膜（LED專用）等復雜膜系。

‌三、應用場景‌

‌光學器件‌：IR截止濾光片、分色濾光片、高反射膜（HR膜）。

‌顯示與電子‌：手機蓋板AF膜、車載鏡頭鍍膜、觸摸屏防污膜（AS膜）。

‌特殊領域‌：LED多層光學DBR膜、光纖介質膜。

‌四、設備狀態與服務‌

‌2015-2017年產在產設備轉讓

‌服務支持‌：包安裝調試、工藝培訓（如AF膜量產技術）及3個月保修。

‌五、能耗與物理參數‌

‌電源需求‌：三相200V/50-60Hz，功率80-120KVA212。

‌冷卻系統‌：水流量≥220L/min，空氣壓力0.5-0.7MPa12。

‌設備尺寸‌：整機重約11-12噸，需凈化車間穿墻安裝

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